为让中国、日本厂商生产不出EUV光刻机,ASML设了好几道坎

EUV光刻机有三大核心技术,一块是曝光光源,也就是极紫外线的产生。在第一部分、第二部分这里,ASML是设置了坎的,其它厂商如果突破不了这个坎,就生产不了EUV光刻机出来。先说是曝光光源,也就是极紫外线,这里ASML先是收购了美国企业Cymer,后来又与德国的TRUMPF独家合作,这就保证了EUV光线的产生技术只有ASML有,不向ASML之外的厂商提供。

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EUV光刻机有多重要,相信了解芯片产业的人都清楚的,因为只要进入芯片7nm工艺就必须用EUV光刻机。

而EUV光刻机目前只有ASML一家能够生产,其它的光刻机厂商,像日本的尼康、佳能,中国的上海微电子都无法生产。

那么问题就来了,如果说上海微电子起步晚,技术有点落后,还生产不了EUV光刻机,那为何历史比ASML更久的尼康、佳能,它们各种技术、设备也不受限,为何也生产不了EUV光刻机?

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原因在于ASML在生产出EUV光刻机后,给其它厂商设了几道坎,这几道坎就限制住了其它厂商顺利的生产EUV光刻机来。

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EUV光刻机有三大核心技术日本大成制造防紫外线日光灯贴膜,一块是曝光光源,也就是极紫外线的产生。第二块就是对准系统,也就是如何将产生的紫外线收集起来。第三部分才是光刻等技术的整合。

在第一部分、第二部分这里日本大成制造防紫外线日光灯贴膜,ASML是设置了坎的,其它厂商如果突破不了这个坎,就生产不了EUV光刻机出来。

先说是曝光光源,也就是极紫外线,这里ASML先是收购了美国企业Cymer,后来又与德国的TRUMPF独家合作,这就保证了EUV光线的产生技术只有ASML有,不向ASML之外的厂商提供。

再说说对准系统,就是将产生的紫外线收集,这里是德国的蔡司半导体提供整体的方案,还提供后续所有镜头,而ASML与蔡司在这一块也是独家合作,蔡司不向另外的企业提供这项技术,而目前没有任何其它厂商能够达到蔡司的这个水平。

所以从第一、二部分就注定了EUV光刻技术,暂时只能掌握在ASML手中,除非其它企业在这两块,能够达到TRUMPF、蔡司的技术,但目前还真没有。

此外,在下游厂商上,ASML也是将台积电、三星、英特尔变成了股东,这样保证了这些厂商买EUV光刻机,只从ASML买,毕竟大家需求有限,EUV光刻机市场就这么大。

所以ASML就是先从上游的供应链,将技术掌握在自己手中,让其它光刻机厂商得不到技术,生产不出EUV光刻机。

然后再从下游客户,将客户掌握在自己手中,让其它光刻机厂商不敢轻易生产EUV光刻机,因为去掉这些主要客户后,市场需求就不太够了,就算其它厂商最终生产EUV光刻机也是亏本生意,所以两方面着手,设置了几道坎,让EUV光刻机只有自己能生产。

原文标题:为让中国、日本厂商生产不出EUV光刻机,ASML设了好几道坎

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